抛光

抛光概念

CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光。CMP技术所采用的设备及消耗品包括：抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。

CMP技术的概念是1965年由Monsanto首次提出。该技术最初是用于获取高质量的玻璃表面，如军用望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM 的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

抛光CMP抛光液

CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。

1. 机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。

2. 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。

3. 电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步： (1) 宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。 (2) 微光平整 阳极极化，表面光亮度提高，Ra<1μm。

4. 超声波抛光 将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小，不会引起工件变形，但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上，再施加超声波振动搅拌溶液，使工件表面溶解产物脱离，表面附近的腐蚀或电解质均匀；超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程，利于表面光亮化。

5. 流体抛光 流体抛光是依*高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

6. 磁研磨抛光 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。

抛光化学抛光机理

化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛光过程中，钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解，且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性，表面微观凸起部位优先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行，只是其速率有差异，结果使钢铁零件表面粗糙度得以整平，从而获得平滑光亮的表面。抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷，从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力 。

电化学抛光原理

电化学抛光也称电解抛光。电解抛光是以被抛工件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电而产生有选择性的阳极溶解，从而使工件表面光亮度增大，达到镜面效果。

抛光工艺流程

化学(或电化学)除油→热水洗→流动水洗→除锈(10%硫酸)→流动水洗→化学抛光→流动水洗→中和→流动水洗→转入下道表面处理工序

工作环境：传统抛光工艺工作环境恶劣，抛光过程中产生沙粒，铁屑，粉尘等，严重污染环境；

.加工效率：人工抛光；

铺料消耗：抛光需要消耗抛光轮、磨料、砂带等辅料；

适应性：抛光可以加工平面等简单的型面，对于曲面无法加工。如果加工R弧，曲面等复杂型面。

抛光后处理

化学抛光后处理

钢铁零件化学抛光，可以作为防护装饰性电镀的前处理工序，也可以作为化学成膜如磷化发兰的前处理工序。如不进行电镀或化学成膜，而直接应用，可喷涂氨基清漆或丙烯酸清漆，烘干后有较好的防护装饰效果。若喷漆前浸防锈钝化水剂溶液，抗蚀防护性将会进一步提高。

抛光准备工作

工具：抛光机、羊毛盘、海绵盘、超细纤维布、遮蔽膜、遮蔽胶带。

材料：砂纸、抛光粗蜡，镜面蜡

抛光作用：去除油漆表面氧化层、浅层的划痕、氧化造成的漆面失光等影响漆面外观的问题。

抛光用力原则：初始抛光时使用中等偏上压力,使蜡有较好的切削力,后续收光可放松压力;抛光面积以一臂距 离为准，抛光完毕后及时擦除残余蜡斑。

抛光抛光三环节

研磨、抛光、还原

各环节具体含义及质量标准：

1、 研磨：通过表面预处理清除漆面上的污物，消除严重氧化、细微划痕及表面缺陷，工艺大多采用水砂纸去除表面瑕疵，一般使用3M 1500-2500皇牌水砂纸。

随着人工成本的提高，水磨砂纸研磨效率不高，使用后砂纸痕较重的问题开始凸显，一些主流高端站开始采用3M 金字塔砂纸，P1500和P3000砂纸，使用干磨机半湿磨的方式进行研磨，无砂纸痕的残留，机械化操作，可极大的提高抛光效率。具体步骤如下：

a, 缺陷去除。漆面喷洒少量水，使用P1500金字塔砂纸配合干磨机整体上下左右各一遍，漆面呈亚光状态；打磨后，使用橡胶刮水板刮除表面的白沫，观察漆面，找出突显的缺陷，再在砂碟上喷洒少量水，去除缺陷。

b, 漆面过细。使用干磨机配合P3000金字塔砂碟和干磨软垫过细打磨过的漆面，在砂碟和漆面上喷洒一定量的水，以较快的移动速度，按上下左右顺序各两道打磨整个漆面。打磨后，使用橡胶刮水板刮除表面水和白沫。

质量标准：漆面上无氧化层、划痕等缺陷

2、抛光：抛光是研磨后进一步平整漆面。除去研磨残余条纹，抛光剂使漆面光泽度自然呈现。

2.1 粗蜡抛光：砂纸研磨后进一步去除表面砂纸痕，恢复漆面平整度和初始光泽。

将蜡均匀涂抹在一定漆面区域内（单次抛光面积在一臂展长宽范围内为宜）抛光机转速控制在1200-2000转之间。初期以中等偏上的压力压住抛光盘均速抛光漆面，观察漆面，待砂纸痕明显抛除后放松压力将蜡痕抛开，回复漆面一定的光泽。抛光后应使用超细纤维布擦拭干净漆面残留的粗蜡和粉尘。

质量标准：去除砂纸在漆面上造成的砂纸痕，漆面呈现处部分光泽。

2.2 镜面抛光：去除粗蜡抛光残留的圈纹，恢复车漆的原有光泽。

质量标准：漆面无明显圈纹，出现镜面效果，光泽度比抛光前得到有效改善。

3、还原：找回车漆的本来面目，恢复新车般的状态。

质量标准：光泽度明显比抛光前得到改善，倒影清晰可见。

为了确定使用研磨剂的种类，需对漆面问题进行判断。在不明显处的小块面积使用研磨剂。研磨剂优先选用轻度研磨剂，如果漆面缺陷较严重，考虑选用中度或重度研磨剂。

抛光注意事项

1、 抛光时必须坚持“宁可慢，不可快，宁轻，勿重”的原 则，避免抛露底漆。

2、 把电线背起来，以免伤人、伤机、缠线，严禁电线接触。

3、 抛光蜡可先倒在漆面上均匀分散，防止漆面飞溅。

4、 漆面抛光前建议先用洗车泥擦拭，去除油漆表面附着的表层颗粒和污染物。

5、 抛前机盖时，用大毛巾或者是遮蔽膜盖住前挡玻璃，避免抛光蜡沾在玻璃密封条与雨刮器上难以擦除。

6、 抛光蜡均匀涂在羊毛盘或海绵盘上，防止飞溅、浪费材料。

7、 使用完毕后正确放置机器，两手柄支地，毛轮朝上。

三种主流研磨抛光技术

1、第一种是物理研磨

这种研磨颗粒呈不规则菱形状，粗中细级别都有，去氧化和划痕效果相当不错，是市面主流研磨抛光技术；而带棱角的粗研磨剂往往造成二次细微划痕，需要更细一级的研磨剂二次以上研磨，程序复杂，同时不可避免的伤及漆面。经常使用这种研磨产品和技术，让漆面像吸毒般的依赖抛光打蜡，清漆层已越抛越薄，原车漆光亮度黯然失色

2、第二种是物理 覆盖研磨

刚抛完的粗中划痕消失，有光亮效果，但在太阳光下有明显细微划痕和旋光，原因：部份划痕被蜡或树脂油性成份填补，而非真正去除；油性过大，抛光毛球行走纹路产生旋光。这种抛光方式极易在洗二三次车后划痕重现，具有较强的欺骗性。不知就理的店主和技师将非常烦恼！

3、第三种是比较顶级和少见的研磨技术

延时破碎抛光技术，研磨剂呈玻珠圆状，不会造成二次研磨划痕，同时漆面的温度较低；当抛光毛球高速运转与研磨剂产生一定的温度时，使研磨颗粒瞬间破碎,形成更细颗粒，有效对细微深层抛光，一步到位,越抛越亮，这种抛光技术即保证了效果，也最大限度的杜绝了抛光对漆面的伤害（抛光必有伤害）！同时这类研磨剂不含蜡或树脂油性成份，抛出的光泽是漆面深邃的原漆光泽，冷光质感今人惊艳。

封头抛光机

适用行业：各类封头内外抛光，包括锥形封头抛光、球冠形封头抛光、球形封头抛光、碟形封头抛光、承压封头抛光、异型封头抛光、不锈钢椭圆封头抛光、标准型封头抛光、压力容器封头抛光等，不锈钢封头抛光。

用途：各类材质工业封头内外表面抛磨、抛光。

详细说明：

1.机床原理 ：通过砂轮或抛光轮与工件表面摩擦，可以对封头内外表面及焊缝进行磨削、抛光实现工件表面粗糙度的提高。

2.机床结构包括机械部分、电器控制部分组成。

3.封头抛光

3.1 封头抛光曲面设置：可以根据封头内表面曲线大致分为前中后三段曲线，即三段分时，分速控制。

3.2 线控盒在封头抛光时提供了横梁上下左右四个方向的点动运行功能，便于操作员靠近封头，观察并调整磨轮与工件的接触情况。

4.基本参数

4.1、抛光工件尺寸：工件直径φ300-φ6000 mm

4.2、加工精度：表面粗糙度Ra≤0.25μm（逐次达到）

4.3、生产效率：9平方米/小时。

4.4、工件转动及横向进给均为变频无级调速，进一步提高工作效率。

4.5、适合抛光材料为千叶轮、布轮、麻轮，使用尼龙轮可以实现表面拉丝。

4.6、机器外形尺寸约（L×W×H）：3000×1500×2500mm。

4.7、输入总功率约：5Kw。

5.产品特点

5.1.抛光材料为千叶轮，低成本。

5.2.采用变频控制，速度可调，效率高。

5.3.可以实现从60-500目级镜面抛光（逐次达到）

5.4.自动化程度高，可连续均匀抛光工作。

抛光机圆管抛光机

多圆管抛光机是采用无心磨原理，由抛磨和送进两大机构组成，通过调节磨头进给量，可对工件进行大余量磨削或精细磨抛，通过调节导向轮间距，可对不同规格的工件进行加工，该机送进机构采用无级变速装置，可以通过改变加工件的进给速度，使工件达到理想的磨抛效果。并可根据工件的不同材质及抛光要求灵活选用砂布页轮、麻轮、布轮、尼龙轮等多种抛光工具对工件进行抛磨。工件托板采用耐磨材料制作，可不必经常调整。工件规格改变调整时，本机采用“单向移动双向到位”的结构，使托板调整工作大为简化。全套生产线由抛光机，给料装置，出料装置三部分组成。并有标准型、自动型、环保型及经济型等多种型号供用户选择。主机磨头数量可根据工件表面的原始状况及对成品表面的光洁度要求，在订货时具体制定。

抛光机圆盘抛光机

圆盘抛光机主要由一个圆盘、抛光立柱（抛光立柱的数量根据产品的加工工艺来定）、电控箱及研磨剂供给系统组成。

圆盘式多功能自动抛光机是一种适应面比较广泛的抛光机机型，对于产品材质为铜、铁、锌、不锈钢的工件均可进行表面处理。圆盘的运动可根据加工产品的不同，作间歇运转或连续运转，并配有变频器控制圆盘转速；抛光立柱上的抛光轮可作多轴定位来满足产品不同侧面的抛光；视产品的工艺要求，可对产品进行砂光、粗抛、细抛、精抛等流水型作业，并可对抛光立柱作适当的取舍；麻轮、布轮耗损时可作自动补偿；装有自动打液体蜡装置；治具方面具有自动装卸工件装置的设计（须治具设计配合），操作起来非常方便。机器还设有故障报警功能，能自动显示故障原因。

抛光机数控抛光机

数控抛光机又称数控磨锋机、数控磨刀磨锋机、CNC抛光机。

数控抛光机是磨刀机工作原理，研制而成的具备自动控制系统的新一代产品，是一种集磨刀与抛光（去刀花）于一体的新型双磨头磨刀机，特别适用于中小型书刊印刷厂。

数控抛光机磨刀磨头采用步进电机，PLC编程控制系统；可自动调节粗磨、精磨次数，磨刀精度高；砂轮自动进给、可记忆、储存、可动态跟踪，操作便捷，自动化程度高，在同类磨刀机中自动化程度最高，大大提高了工作效率。

抛光机模具抛光机

模具抛光机采用进口大功率器件，功率比同类产品提升30%。微电脑控制的谐振频率自动寻找和锁定功能；数控九段振动大小和放电间隙跟踪适应功能。模具抛光机适用范围：各种模具（包括硬质合金模具）的复杂型腔、窄槽狭缝、盲孔等粗糙表面至镜面的整形抛光。可抛光各种金属、玻璃、玉石、玛瑙等。由微电脑精确产生五档火花脉冲和九十九段花纹及强化脉冲，在花纹状态能逼真地模拟出从亚光至很粗的电火花花纹；强化状态能将碳化钨等具有高耐磨性能的材料转移镀覆到工件的工作表面，从而大大延长工件的使用寿命；由于改进了声波输出电路，使机器非常适合于用纤维油石和金刚石锉刀作粗糙表面的振动研磨；增加了具有人工智能的真人发声的语音提示功能，为正确和安全使用机器提供了有力保障。

锌合金镜面抛光 锌合金抛光 锌 合金抛光

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