HCl体系紫铜化学抛光工艺

不锈钢化学抛光工艺的研究

化学抛光是利用铝或铝合金制件在酸性或碱性电解质溶液中的选择性溶解作用来整平和抛光制件表面,以降低其表面粗糙度r_a值的化学加工方法.我厂转铃铝铭牌采用酸性化学抛光工艺.但由于原来的磷酸、硫酸和硝酸三酸的比例不恰当,产品质量不稳定,拋光后工件带黑无光泽或有雾状白斑.且生产过程中产生大量俗称"黄龙"的氮氧化物(主要是no_2、

开发出了弱碱性溶液中紫铜化学抛光新工艺,确定了抛光液中的光亮剂(包括缓蚀剂和表面活性剂).经过一系列正交实验,获得了最佳工艺条件,并分析了影响抛光效果的各种因素.该工艺抛光速度快、腐蚀性低、环境污染小、成本低.

低、中碳钢材料低温化学抛光过程中双氧水易分解、温度不易控制、中温化学抛光配方中使用氢氟酸的废水中氟离子较难处理,为了解决这些问题研究了高温化学抛光液的组成和前处理工艺,分析了抛光液中各物质含量对工件产生的影响。结果表明,在不使用cro3的情况下,将普通酸和常用助剂组合,温度控制在95～110℃时,可以使低、中碳钢工件表面抛光成镜面光亮,抛光时间短、速度快、效率高、容易控制、无有毒气体nox逸出,废水中无有毒离子,可以实现清洁化生产。

为了提高焊丝化学抛光后的表面光亮度和焊接性能,获得高质量的焊缝并降低化学抛光成本,采用正交试验法对原有抛光液的配方和工艺参数及添加剂各成分的作用机理进行了探讨,并对抛光液配方作了相应的改进,从而获得一种成本较低的化学抛光液配方。此化学抛光工艺设备投资小,抛光液价格低、寿命长,生产成本低。

研究以h2o2为主要氧化剂的化学抛光液对bfe10-1-1铁白铜进行表面化学抛光,考察了光亮剂、缓蚀剂、h2o2稳定剂的种类,化学抛光液各组分的含量,抛光温度以及抛光时间对铜合金抛光效果的影响。优化出抛光液组成及抛光工艺条件:质量分数为30%的h2o2350ml/l,浓h2so450ml/l,无水乙醇17～20ml/l,op-101ml/l,苯骈三氮唑(bta)1g/l,水余量;在50℃下抛光3～5min。

对传统铜及铜合金化学抛光的hno_3-h_2so_4-hcl体系进行了改进,提出了nano_3-h_2so-4-hcl无黄烟化学抛光工艺。

铜及铜合金化学及电化学抛光：化学抛光 (1)普通型化学抛光溶液配方及工艺规范见表1。 (2)清洁型化学抛光溶液 ①工艺流程。上夹具一超声波脱脂一热水洗一三级逆流漂洗一除膜一化 学抛光一流动水洗一无铬钝化一流动水洗一封闭干燥一成品下架。 ②清洁型化学抛光溶液配方及工艺规范硫酸(h2s04)450ml／l 表1铜及铜合金化学抛光工艺规范 配方 工艺规范 12345 硫酸(h2s04，密度 1.84g／ml)／(ml／ l) 250～280400～500 硝酸(hn03，密度 1.50g／ml，质量

黄铜件无黄烟化学抛光

0前言 化学抛光可提高铜及其合金制件的光亮度.传统的化学抛光是在浓硫酸-硝酸-盐酸中进行的,其中硝酸的体积分数高达400～500ml/l,抛光时有大量氮氧化物气体逸出,不仅严重污染环境,而且危害人体健康.多年来,许多同行探索低硝酸或无硝酸化学抛光工艺,即无黄烟化学抛光工艺,取得了成效.现对该工艺做简单介绍.

不锈钢化学抛光

１工艺流程有机溶剂去油（进行两次）→晾干→上夹具→化学去油→热水洗→流水洗→化学抛光→热水洗→流水洗→去膜→流水洗→吹干→氧化→流水洗→吹干→卸夹具→印字→上夹具→染色→流水洗→热水封闭→吹干→送检→包装。注意事项：（１）流水洗，时间为１０～１５ｓ。...

介绍黄铜保持架的电抛光原理,针对黄铜保持架对电抛光后光亮性和颜色一致性的要求,设计了工艺流程,并对影响电抛光质量的因素和抛光液的维护进行了讨论。黄铜保持架电抛光后,再经过钝化处理,工件表面光亮、色泽均匀,尺寸变化小。

对传统的"三酸"化学抛光工艺存在的问题进行了详细分析。在此基础上,通过试验研究开发出了建筑铝型材无烟化学抛光新工艺。采用这一新工艺后,工作环境基本无酸雾,槽液分析简便,易于观察和监控槽中反应,抛光质量稳定,磷酸消耗量显著下降,取得了较好的经济效益和社会效益。

针对不锈钢细长弯管的化学抛光,经过反复试验,筛选出性能较好的化学抛光添加剂,研制出一种简便易操作效果好的化学抛光工艺,并得到抛光此类材料的最佳工艺参数。

《探寻铜制品化学抛光的原理》说播课课件(全国高中化学优质课大赛获奖案例)

为优化免洗小米抛光工艺,在单因素试验基础上,选择上光剂的浓度、温度和添加量为自变量,洗米水的浊度为响应值,根据中心组合试验设计原理采用3因素3水平响应面分析法,模拟得到二次多项式回归方程预测模型,并确定免洗小米抛光的最佳工艺条件为:浓度30%、温度30℃、添加量1%,浊度为54.8ntu。

mems器件、保护电路、空间太阳电池等的制作需要使用硅双面抛光片,并且要求抛光片的厚度很薄,传统的硅抛光片加工工艺已经不能满足这一要求。介绍了一种用于超薄硅单晶双面抛光片加工的抛光工艺方法。通过对硅片抛光机理[1]、抛光方式、抛光工艺的研究和对抛光工艺试验结果的分析,解决了超薄硅单晶双面抛光片在加工过程中碎片率高、抛光片背面表面质量不易控制的技术难题,研制出了高质量的超薄硅单晶双面抛光片。

不锈钢卡的化学抛光

不锈钢基板是下一代柔性显示器的理想选择,对其表面加工是世界各国显示器厂商争相研究攻克的技术。根据不锈钢基板的主要化学成分,提出了化学抛光液的配制原则。通过测量不锈钢基板表面粗糙度和失重率的变化,研究不同抛光液组份对抛光效果的影响,分析不同化学组份的作用机理,确定了以磷酸、盐酸、硝酸、亚硝酸钠和添加剂为主要成分的不锈钢基板化学抛光液。结果表明,在一定的工艺条件下,锈钢基板由抛光液抛光后可取得较好的抛光表面。

铜螺丝紧固件表面抛光工艺实例 背景 无锡某五金加工厂，主要加工各类金属产品。其中以铜材产品最多。长期以 来自己都采用传统的工艺处理。每次送到客户手中的时候，产品表面发生了氧化 除锈黑点。以前客户要求不是很高，为了能够更长时间的保持，产品的光泽度。 由于铜材在空气之中氧化的速度非常快，所以包装之前都要裹上一层厚厚的油来 防隔离空气与水分防止氧化。 可是随着客户业务的加大他们的产品要出口，在海上一走就是一两个月。到 了之后打开箱子产品表面全部出现黑点。客户要退货这一来一去的费用，损失着 实不少哇！后来客户通过网络找到了我们苏州凯盟。我第一时间跟客户进行了沟 通，客户也答应寄样品过来。拿到样品后我们根据情况做了分析。 目前存在的技术问题 1.清洗抛光采用最原始的酸进行处理，反应剧烈、伴有刺鼻的气味、不好排 放 2.防锈油防氧化时间短，表面清洁度不高 解决方案一、 没处理前（

粗砂打磨，明亮的，平淡结束，发线，染色完成，光明退火，镜面抛光 抛光方法 目前常用的抛光方法有以下几种： 1.1机械抛光机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平 滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体 表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采 用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用 该技术可以达到ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采 用这种方法。 1.2化学抛光化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶 解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可 以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得