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更新时间:2025.05.10
免洗小米抛光工艺优化研究

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为优化免洗小米抛光工艺,在单因素试验基础上,选择上光剂的浓度、温度和添加量为自变量,洗米水的浊度为响应值,根据中心组合试验设计原理采用3因素3水平响应面分析法,模拟得到二次多项式回归方程预测模型,并确定免洗小米抛光的最佳工艺条件为:浓度30%、温度30℃、添加量1%,浊度为54.8NTU。

土坡稳定分析ppt版(共25页)

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土坡稳定分析ppt版(共25页)——土坡稳定分析边坡指具有倾斜坡面的岩土体(天然边坡、人工边坡)由于边坡表面倾斜,在岩土体自重及其它外力作用下,整个岩土体都有从高处向低处滑动的趋势。边坡丧失其原有稳定性,一部分岩土体相对另一部分岩土体发生滑动的现...

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