表面磨光和抛光

牙间隙的抛光基托磨光面的抛光

不同抛光表面典型表面光洁度表 经过退火的不锈钢板表面，为了观赏性和功能方面的考虑，使用前大多要进行抛光加工，以提高其附加 价值。典型的抛光加工有hl、no.4、镜面、振动、喷丸和抛光轮加工等方法，但根据抛光材的种类和抛光 条件，表面质量是不同的，故对应各种加工就存在好几种抛光表面。 各抛光加工的表面光洁度基本近似于下表 抛光加工抛光材号算术平均光洁度（ra）最大光洁度（ry） hl 80#0.585.00 150#0.373.37 no.4180~240#0.473.49 镜面0.00220.0252 振动 36#0.312.41 60#0.201.89 喷丸玻璃珠80#1.036.03 抛光轮 400#0.050.33 600#0.040.27 注：本资料由【东莞市泽洋金属材料有限公司(东莞泽洋金属材料) h

总结了最近几年来国外在超光滑表面抛光技术方面的新进展;介绍各种新超光滑表面加工技术的工作原理,总结其主要特征,并提供一些最新的实验结果。

文中介绍了蓝宝石基片的主要抛光方法,包括浮法抛光、机械化学抛光、化学机械抛光和水合抛光等,对它们的工作原理、特点作了分析和总结。

关于渗花和微粉抛光砖表面落脏问题的答疑

本文研制了室温固化的抛光砖表面防污剂。它具有固化后不收缩、透明度高、耐水擦拭和浸泡的特性,并具有很好的渗透性和附着力。文中还讨论了以石油醚为溶剂的钛酸四异丙酯对防污剂固化速度的影响以及甲基含氢硅油和钛酸四异丙酯的含量对防污性的影响。

对采用游离磨料研磨抛光后的花岗石表面粗糙度和光泽度进行了测量,并观察花岗石在研磨过程中表面形貌的变化。实验结果表明,抛光后表面粗糙度值虽然很低,但并没有消除石材与生俱来的裂纹等缺陷,表面还残留大量粗加工造成的较大凹坑,限制了花岗石表面光泽度的进一步提高。

文章编号:　1001-227x(2001)06-0032-04 铝材表面处理 铝及铝合金的表面抛光 焦树强,　周海晖,　陈金华,　旷亚非 (湖南大学化学化工学院,湖南长沙　410082) 摘要:介绍了铝及其合金机械抛光、化学抛光、电化学抛光的研究进展。其中较为详 细地介绍了无毒化学抛光、铸铝合金化学抛光、无铬酸电化学抛光技术等。 关键词:铝及其合金;　抛光 中图分类号:tg17513;tq15315　　　　　　　文献标识码:a surfacepolishingforaluminumanditsalloy jiaoshu-qiang,zhouhai-hui,chenjin-hua,kuangya-fei (inst.ofchemistryandchemicalengi

研制了室温固化的抛光砖表面防污剂,对抛光砖的微孔及抛光过程所导致的微裂纹具有很好的渗透性和附着力,固化后不收缩,透明度高,耐水擦拭和浸泡。讨论了以石油醚为溶剂钛酸四异丙酯对防污剂固化速度的影响、甲基含氢硅油和钛酸四异丙酯的含量对防污性的影响。

抛光垫表面沟槽是决定抛光垫性能的重要因素之一。介绍了抛光垫表面沟槽的形状、尺寸和倾斜角度等因素对抛光过程的影响规律,认为:负螺旋对数型沟槽抛光垫的性能最佳,沟槽的深度和宽度会影响加工区域抛光液的平均驻留时间、混和效率及成分,沟槽的倾斜角度也会影响抛光效率,-20°倾斜角抛光垫的抛光效率最高。

为了解决在化学机械抛光过程中抛光接触区域内抛光液的分布均匀性问题,基于生物学的叶序理论,设计葵花籽粒结构的仿生抛光垫,建立化学机械抛光抛光液流场的运动方程和边界条件,利用流体力学软件(fluent)对抛光液的流动状态进行仿真,并获得叶序参数对抛光液流动状态的影响规律。结果表明:抛光液在基于葵花籽粒的仿生抛光垫的流动是均匀的,抛光液沿着逆时针和顺时针叶列斜线沟槽流动,有利于流体向四周发散。

透光和导光材料

透光和导光材料

瓷质釉面抛光砖的表面硬度及耐磨性改善 (2)

不锈钢表面处理_酸洗_钝化与抛光

本文介绍了在抛光加工过程中纯色瓷质抛光砖表面出现的“白色灰雾”现象所引起的色脏问题,并着重对其机理进行了分析,为进一步解决色脏问题提出了相应的改进措施。

利用熔融稀土铈(ce)对cvd金刚石厚膜进行了抛光研究。详细讨论了工艺参数对抛光速率和表面粗糙度ra的影响,获得了最佳抛光工艺。通过对抛光后金刚石膜表面的拉曼光谱(raman)、俄歇能谱(aes)、扫描电镜(sem)以及能谱(eds)的分析,探讨了抛光机理。结果表明:该方法有很高的抛光速率,可达每小时数百微米。抛光后金刚石膜的ra从10.845μm降低至0.6553μm。抛光的热处理工艺不但没有破坏金刚石表面的原始结构,而且由于铈对石墨的优先刻蚀,抛光后金刚石膜表面的石墨含量还大大减少。

目的研究表面抛光和上釉处理对氧化锆全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响.方法制作氧化锆全瓷试件18个,随机分成3组,每组6个,第一、第二组分别进行表面抛光、上釉,第三组不处理.测量各组表面粗糙度(ra)值,并通过磨耗实验,以天然牙釉质为对照组,计算各组试件磨耗实验后自身及对磨滑石瓷的体积损失量.结果抛光、上釉、未处理组的表面粗糙度值分别为(0.358±0.020)、(0.384±0.011)、(1.597±0.068)μm,抛光、上釉组均小于未处理组(p0.05).被测试件磨耗后体积损失量均小于天然牙(p<0.01),其中抛光组小于上釉组(p<0.01).各组的对磨滑石瓷体积损失量均大于天然牙(p<0.01),其中抛光组小于上釉组(p<0.01).结论上釉和抛光氧化锆全瓷表面能达到同样的光滑度.抛光氧化锆全瓷表面对对颌牙釉质的磨耗量及自身的磨耗量均小于上釉表面.

碳化硅光学反射镜已经在国民生活各个领域得到广泛应用,但是其抛光机理尚不明确。对碳化硅光学表面抛光机理进行了研究。介绍了陶瓷材料的磨削机理——压痕断裂模型。应用压痕断裂模型分析了理想状态下的碳化硅抛光过程,并研究了实际抛光过程中碳化硅光学表面的抛光机理。

本文利用扫描电镜发现大理石抛光表面存在有微米级的不同于大理石母材的变质层。进而利用透射电镜证明:该变质层是由非晶和微晶组成的。它的产生有助于提高大理石抛光表面的光泽度。

cn102392250a该发明公开了一种适用于金属表面处理的抛光剂。许多金属零部件都需要一定的光亮度,抛光处理是零部件加工重要的环节,在抛光处理过程中,常添加抛光剂,以提高工件的光亮度。传统采用的膏状抛光剂常有施工不方便,以及对环境的污染较为严重等

研制了室温固化的抛光砖表面防污剂,对抛光砖的微孔和表面具有很好的渗透性和附着力,透明度高,耐水和耐有机溶剂擦拭。讨论了影响防污剂固化速度和防污性的诸种因素。