基于仿生结构锡抛光垫的抛光接触压力分析
为了让化学机械抛光中晶片接触表面受力更均匀,基于Winkler地基理论及叶序理论设计了一种锡仿生结构抛光垫,并且建立了抛光的接触力学模型和有限元分析模型。通过对抛光晶片表面接触压力的计算,获得了晶片表面接触压力分布,以及各物理参数对压力分布的影响规律。研究结果表明,使用锡仿生结构抛光垫能减小材料横向牵连效应,改善接触压力分布,而且存在使压力分布更为均匀的叶序参数。
固结磨料抛光垫抛光硅片的探索研究
采用失重法与铅笔硬度计分析了抛光垫的组分对其溶胀率及干湿态硬度的影响,比较了固结磨料方法与游离磨料方法抛光后硅片的表面粗糙度。结果表明:抛光垫基体的溶胀率随基体中聚乙二醇双丙烯酸酯(pegda)或乙氧基化三羟基丙烷三丙酸酯(eo15-tmapta)含量的增加而提高;基体的干态硬度随pegda含量的增加先有所增大,而后减小,随eo15-tmapta含量的增加而增大;湿态下铅笔硬度随pegda或eo15-tmapta含量的增加而减小;光引发剂量的增加,有利于增大基体的干湿态硬度;固结磨料抛光硅片的去除速率是游离磨料加工的2~3倍,而前者抛光硅片后的表面粗糙度ra为12.2nm,大于后者的4.32nm。
叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析
为了解决在化学机械抛光过程中抛光接触区域内抛光液的分布均匀性问题,基于生物学的叶序理论,设计葵花籽粒结构的仿生抛光垫,建立化学机械抛光抛光液流场的运动方程和边界条件,利用流体力学软件(fluent)对抛光液的流动状态进行仿真,并获得叶序参数对抛光液流动状态的影响规律。结果表明:抛光液在基于葵花籽粒的仿生抛光垫的流动是均匀的,抛光液沿着逆时针和顺时针叶列斜线沟槽流动,有利于流体向四周发散。
化学机械抛光中抛光垫表面沟槽的研究
抛光垫表面沟槽是决定抛光垫性能的重要因素之一。介绍了抛光垫表面沟槽的形状、尺寸和倾斜角度等因素对抛光过程的影响规律,认为:负螺旋对数型沟槽抛光垫的性能最佳,沟槽的深度和宽度会影响加工区域抛光液的平均驻留时间、混和效率及成分,沟槽的倾斜角度也会影响抛光效率,-20°倾斜角抛光垫的抛光效率最高。
化学机械抛光垫沟槽形状的研究及展望
在化学机械抛光过程中,沟槽形状是抛光垫性能的重要影响因素之一,它会直接影响抛光效果。本文介绍了化学机械抛光垫上沟槽的基本形状及其对抛光效果的影响,以及不同复合形状的抛光垫沟槽及其对抛光效果的影响,并就研究中现存的主要问题提出展望。
橡胶O形密封圈最大接触压力数值分析
以o形圈为研究对象,利用有限元模拟软件ansys对o形圈的材料特性以及预紧时的压缩率进行了模拟研究,得出了不同材质o形圈在不同压缩率下的最大初始接触压力和其分布规律。并且通过对数据的处理得到了一般情况下求解初始最大接触压力的数学表达式。
管道法兰螺纹连接处热接触压力的分析
本文根据热弹性接触理论,用有限元混合法对螺纹连接的管道法兰进行了分析,得到了较合理的接触压力的分布曲线。通过实例计算,找到了管道和法兰最大应力集中区的位置。
抛光砖抛光废料的回收利用途径分析
陶瓷抛光砖抛光废料产出量很大,严重污染周边环境,是困扰抛光砖生产的世界性难题。本文通过对此方面的研究结果,着重论述了陶瓷抛光砖抛光废料回收利用的可行性方法。
双排四点接触球转盘轴承滚道接触压力分布
双排四点接触转盘轴承通常用于可靠性要求较高的大型机械中,其主要功能是连接2个需要相对回转的大型零部件。静/动承载能力是选择或者设计转盘轴承的基础,滚道接触压力分布规律则是研究转盘轴承静/动承载能力的前提。讨论了一种求解双排四点接触球转盘轴承在任意方向和大小外载条件下滚道载荷分布情况的方法,这种方法综合考虑了转盘轴承的截面间隙、滚珠直径、初始接触角、滚道/滚珠曲率半径比等各种几何参数,适用于优化设计双排四点接触球转盘轴承,以某型号风电变桨转盘轴承为例,运用该方法求解了转盘轴承滚道的接触压力分布。
牙间隙的抛光基托磨光面的抛光
牙间隙的抛光基托磨光面的抛光
金刚石丸片与固结磨料抛光垫研磨硅片的比较研究
采用金刚石丸片和固结磨料抛光垫两种方式研磨加工硅片,以硅片的材料去除率(mrr)和表面粗糙度(sa)为指标对金刚石丸片和固结磨料抛光垫的研磨性能进行了评价。结果表明:固结磨料抛光垫研磨硅片的材料去除率高于金刚石丸片;研磨后硅片的表面粗糙度也优于金刚石丸片,且表面粗糙度(sa)在中部和边缘相差不大。最后分析了研磨硅片的产物-磨屑的形状特征,得出固结磨料抛光垫研磨硅片时的塑性去除量远高于金刚石丸片。
变压器有载分接开关触头接触压力不够缺陷判断
对变压器有载分接开关触头接触压力不够的缺陷进行了分析和处理。
从抛光的角度分析抛光砖变形的原因及解决办法
从抛光的角度分析抛光砖变形的原因及解决办法 【摘要】抛光砖在生产中,由于种种因素的存在,出现砖变形 情况并不少见,这直接影响到了抛光砖的品质。为此,必须解决好 砖变形的问题。文章在分析抛光砖的抛光原理的基础上,总结与阐 述了影响抛光砖变形的因素,并提出了一些克服变形的措施与办 法。 【关键词】抛光砖;磨削;摆臂长度;磨头数量;因素 抛光砖是通体砖坯体的表面经过打磨而成的一种光亮的砖,同时 也是一种高品质的仿花岗岩装饰材料,集美观庄重、富丽堂皇、典 雅华贵为一体,装饰效果甚至优于天然石材。其耐磨性及力学性能 均属上乘。但长期以来,抛光砖的变形问题一直没有得到很好的解 决,为了提高抛光砖的质量,本文总结与阐述了影响抛光砖变形的 因素,并提出了一些克服变形的措施与办法。 1.假设 (1)抛光机的磨头旋转时的平面与抛光机底板平面是平行的。 (2)进入抛光机的砖是平整的且无厚薄差(即底面与表面平
采油单螺杆泵接触压力有限元分析
单螺杆泵转子与定子橡胶间接触压力是影响磨损的重要原因,根据其工作原理和结构特点,用solidworks建立了油田用单螺杆泵的实体模型,利用基础试验确定了定子衬套橡胶的本构关系是mooney-rivlin模型,以及确定了本构关系中所需要的常数,适应了材料非线性。利用有限元分析软件ansys,经过多次尝试选用solid45和solid185单元,模拟螺杆泵工作参数建立有限元模型,运用ansys进行力学分析,得出接触压力的分布规律,为分析螺杆泵的磨损和寿命问题奠定基础。
抛光机6圆磨块粗抛抛光头的改进
笔者对6圆磨块粗抛抛光头进行了改进,选用了合理的自转速度,在不需降低功率的条件下,提高了易损轴承的承载能力,延长了每次维修后的正常使用时间、降低了维修费用、提高了生产效率。
陶瓷抛光砖抛光废料的回收与利用
陶瓷抛光砖抛光废料产出量很大,严重污染周边环境,是困扰抛光砖生产的世界性难题。根据多年的研究结果,着重论述陶瓷抛光砖抛光废料回收利用的可行性方法,并对该技术要点及技术指标进行说明。
光纤连接器端面抛光计算分析
利用ansys软件对光纤连接器抛光时端面接触压强分布进行计算分析,通过实验研究证明计算是正确的,从而为光纤连接器端面抛光的优化分析提供充分的理论依据.
绝缘纸板微水分测量传感器的接触压力研究
绝缘纸板微水分介电测量系统中,电容式传感器电极与被测绝缘纸板的接触状态与接触压力会影响测量结果。利用平板电容式传感器对绝缘纸板的介电参数受压力影响的问题进行了测量研究。试验证明压力对介电响应测量结果的影响,并分析了原因。
化学机械抛光之抛光垫表面沟槽形状的研究与分析
在化学机械抛光过程中,抛光垫表面沟槽形状是决定抛光垫性能的重要影响因素之一,它会直接影响抛光效果。在分析几种常规抛光垫表面沟槽结构形状的特性的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,分析了几种新型抛光垫表面沟槽对抛光效果的影响,为化学机械抛光用的抛光垫表面沟槽特性的深入研究与分析提供参考。
影响大米抛光机抛光效果的因素分析
目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题.在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析,供大家参考.
接触压力和循环应力幅对45号钢微动疲劳特性影响
研究了接触压力对调质45号钢微动疲劳特性的影响.随着接触压力增大,在低接触压力阶段,微动疲劳寿命急剧下降;然而,在高接触压力阶段几乎保持不变.随着循环应力幅升高,微动疲劳寿命下降.实验中,微动接触面上出现磨损并形成凹坑.在高接触应力情况下,主裂纹萌生在凹坑外边缘处;在低接触应力情况下,主裂纹萌生在微动接触面的中间部分.
铂金抛光的好还是不抛光的好
在建设工程领域中,铂金抛光是一个常见的工艺。然而,是否进行铂金抛光还存在争议。本文将从不同角度探讨铂金抛光的利与弊,并给出相关解释。
抛光废渣回收利用于抛光砖生产的研究
现有的抛光砖生产工艺由于在抛光阶段会产生大量的废渣,很难直接回收利用,从而对周边环境造成极大的破坏。其中抛光废渣中含有氯氧镁水泥等杂质是造成抛光废渣直接回收利用时产生坯体膨胀、针孔、变形等缺陷的最重要原因。针对现有的抛光砖在抛光阶段产生大量的废渣难于直接回收再用的难题,本文提出了分类回收、自然沉降、分开使用的最优处理思路,创新性地丰富了抛光废渣回收领域的技术内涵。
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