多晶硅工艺流程简述 （改良西门子法及氢化） 氢气制备与净化工序 在电解槽内经电解脱盐水制得氢气。电解制得的氢气经过冷 却、分离液体后，进入除氧器，在催化剂的作用下，氢气中的微量氧 气与氢气反应生成水而被除去。 除氧后的氢气通过一组吸附干燥器而 被干燥。净化干燥后的氢气送入氢气贮罐，然后送往氯化氢合成、三 氯氢硅氢还原、四氯化硅氢化工序。 电解制得的氧气经冷却、分离液体后，送入氧气贮罐。出氧气 贮罐的氧气送去装瓶。 气液分离器排放废吸附剂、 氢气脱氧器有废脱氧催化剂排放、 干 燥器有废吸附剂排放，均供货商回收再利用。 氯化氢合成工序 从氢气制备与净化工序来的氢气和从合成气干法分离工序返 回的循环氢气分别进入本工序氢气缓冲罐并在罐内混合。 出氢气缓冲 罐的氢气引入氯化氢合成炉底部的燃烧枪。 从液氯汽化工序来的氯气 经氯气缓冲罐， 也引入氯化氢合成炉的底部的燃烧枪。 氢气与氯气的 混合气体在燃烧
多晶硅生产中废气的处理方法主要有水洗法、焚烧法和碱液淋洗法.水洗法是多晶硅厂最传统的废气处理方法,是通过大量的喷淋水吸收废气中氯化氢和氯硅烷,该方法资源浪费量巨大,同时存在重大的安全隐患,现在已基本不使用.焚烧法是将废气进行高温燃烧和水解,得到二氧化硅和盐酸,该方法因前期投资过大、设备要求过高、工艺复杂、运行成本高等原因,其应用受到限制.碱液淋洗法因其工艺简单、投资和运行成本较低、处理效果好等优点,成为目前多晶硅厂最常用的废气处理方法.
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