MEMS器件、保护电路、空间太阳电池等的制作需要使用硅双面抛光片,并且要求抛光片的厚度很薄,传统的硅抛光片加工工艺已经不能满足这一要求。介绍了一种用于超薄硅单晶双面抛光片加工的抛光工艺方法。通过对硅片抛光机理[1]、抛光方式、抛光工艺的研究和对抛光工艺试验结果的分析,解决了超薄硅单晶双面抛光片在加工过程中碎片率高、抛光片背面表面质量不易控制的技术难题,研制出了高质量的超薄硅单晶双面抛光片。
大明湖景观综合整治工程第一标段 山东济宁水利施工公司编制 施工组织设计 F01 编制依据及原则 一、编制依据 1、《济南市大明湖景观综合整治工程设计图纸》 、《济南市大明湖景观 综合整治工程招标文件》、《招标答疑》及结合现场勘察的实际情况。 2、现行水利工程施工规范以及与图纸相适应的其他相关现行施工验收 规范质量检验标准等。 3、适用标准、规范的名称： （1）《建筑工程质量检验评定标准》 GBJ301—88 （2）《地基与基础工程施工及验收规范》 GBJ202—83 （3）《土方与爆破工程施工及验收规范》 GBJ201—83 （4）《碾压式土石坝施工技术规范》 SDJ213—83 （5）《混凝土面板堆石坝施工规范》 SL49—94 （6）《水利水电工程施工质量评定规程（试行） 》SL176—96 （7）《水利水电工程测量规范》 SDJS9—85 （8）《堤防工程施工规范》 S
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