布图设计是根据微电子技术电路及其制造工艺的要求进行的掩模设计。布图设计一般包含布局(电路元件、器件的安置)和布线(电路元件、器件的互连)两个相互关连的设计步骤。布图设计的主要任务是按给定的制造工艺条件,完成电路元件、器件的布置和元件间必需的互连,保证:芯片有较高的布图密度;互连符合元件、器件的电学性能要求(如负载能力等);互连产生的寄生效应的影响(如连线寄生电容等)在设计要求允许范围以内并考虑设计制造周期、设计正确性验证和设计成本等。
中文名称 | 布图设计 | 原理 | 根据微电子的掩模设计而成 |
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主要任务 | 元件间必需的互连 | 用于 | 大规模或超大规模集成电路设计中 |
利用预先制造好的"母片"进行电路布图设计。通常母片上以阵列形式排列着大小、形状相同的待互连的基本单元(一般为逻辑门)。设计时,首先根据电路的互连要求进行单元分配,使电路的单元与母片上一个或若干个固定的基本单元建立对应关系。然后,在基本单元间的布线区内实现单元间所需的互连,其主要设计过程可由计算机自动完成,设计周期短。除布线有关的工艺步骤外,其他工艺步骤(母片的制备)都可在具体的电路布图设计前成批地完成。因此,在布图设计完成后设计者可很快地得到所需的芯片。由于利用预先制备的母片,通常在芯片上有较多的冗余单元,布图密度较低;对于复杂的电路,不能保证自动地完成全部所需的互连,往往需要对少数剩线再进行人工设计。
利用预先设计好的功能单元电路进行布图设计。单元的形状和大小可以是任意的(一般为矩形)。互连接点排列在单元的边界上。布图设计时,根据互连要求和单元的形状、大小进行单元的布置。然后,在功能单元间的布线区中实现单元间的互连。设计结果具有较高的布图密度。
首先根据电路和工艺条件。将电路的元件、连线、接触孔等规定为符号,并在由工艺条件确定的网格上用这些符号描述电路元件及其互连关系,然后由计算机软件自动产生实际的芯片布图。在设计中也可采用相对网格,用符号在网格上描述出电路的骨架图后,由计算机软件进行布图空间的压缩并产生实际芯片布图。这种设计方式可缩短作图和数字化的周期并可获得布图密度较高的设计结果。
集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。通俗地说,它就是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中...
恩,这个我问过一些知识产权公司,他们告诉我说这只会在打官司的时候用到,平时对个人或单位的话只能有些名气上的作用。这边老板告诉我们,国外也差不多类似,没有太严格的要求,基本都是为打官司。有些东西都是不申...
集成电路布图设计在中国的知识产权领域目前属于专利范畴。 为此,国家制定了《集成电路布图设计保护条例》,2001年3月28日国务院第36次常务会议通过,现予公布,自2001年10月1日起施行。...
利用预先设计好的标准单元进行电路布图设计。标准单元在电学上可以是一个逻辑门或触发器等功能子电路。这些单元的高度相同,长度不同。所有的输入、输出接点排列在单元的上、下一边或两边上。地线和电源线排列在单元的左右两边。布图设计时,计算机根据电路的互连关系将单元成行地排列,行内单元的地线、电源线同时实现了互连,电路单元的其他互连在单元行间和两端的布线通道区中间完成,一般采用双层布线,可由计算机软件自动完成。单元行间的距离可根据布线的实际需要进行调整。这是一种自动化设计方式,设计周期短,但布图密度低于人工设计方式。
可分为自顶向下和自底向上两个设计过程。
在自顶向下设计过程中,先把电路划分为若干个大小不同、互连关系比较松散的子电路,并根据各子电路和总的设计要求概略地确定出各子电路的布图设计结果的形状、大小和位置。然后,分别根据各子电路的性质选用适当的设计方式进行布图设计,并尽可能使设计结果满足上一级设计提出的形状、大小和引出接点位置等要求。在子电路的布图设计中还可以继续分级,最后完成各子电路的互连而获得所需芯片的布图设计。
在自底向上设计过程中,首先根据子电路自身的要求进行最低一级子电路的设计。然后,根据设计结果的形状、大小和相互间的连接关系,决定其各自的位置,实现互连而形成上一级的子电路布图结果。继续上述过程,直至完成整个电路的布图设计。
集成电路布图设计登记 恢复权利请求书 布图设计 申请号: 申请日: 布图设计名称: 申请人(专有权人): 请求内容: 根据集成电路布图设计保护条例实施细则第九条规定,对 年 月 日国家知识产权局发出的 ,请 求恢复权利。 请求恢复权利的理由及证明: 附件清单: 申请人(专有权人)或代理机构签章: 年 月 日 国家知识产权局处理意见: 年 月 日
布图设计专有权,是指通过申请注册后,依法获得的利用集成电路设计布图实现布图设计价值得到商业利益的权利。
(一)集成电路布图设计权的主体
按照我国《集成电路布图设计保护条例》第3条的规定,中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计,依照本条例享有布图设计权;外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计权;外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的,依照本条例享有布图设计权。
(二)客体条件
集成电路布图设计必须具备独创性。
布图设计应当是作者依靠自己的脑力劳动完成的,设计必须是突破常规的设计或者即使设计者使用常规设计但通过不同的组合方式体现出独创性时,都可以获得法律保护。
(三)方式和程序
目前,世界各国主要采取三种取得方式:自然取得,登记取得,使用与登记取得,大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。
取得的程序:
(1)申请:向国家知识产权行政部门提交申请文件;
(2)初审;
(3)登记并公告;
(4)对驳回申请的复审;
(5)登记的撤销。
(四)集成电路布图设计申请阶段需提交的材料:
(1)集成电路布图设计登记申请表。
(2)集成电路布图设计的复制件或者图样。
(3)集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。 集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。
(4)国家知识产权局规定的其他材料。
(一)集成电路布图设计专有权的内容
1、复制权
实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。
2、商业利用权
是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
但是布图设计权并不包括精神权利。
(二)布图设计权的行使
1、布图设计权的转让
布图设计权的转让,就是权利人将其全部权利转让给受 让人所有。根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定,转让布图设计权的,当事人应当订立书面合同,并向国务院知识产权部门登记并公告。
2、布图设计权的许可
当事人应当订立书面合同。
(一)保护期限
布图设计权的保护期限为10年,自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受到保护。
(二)侵权行为
所谓布图设计的侵权,是指侵犯了布图设计人的权利,依法应当承担的法律责任。包括侵犯布图设计人的复制权和商业利用权。
(三)侵权责任及制止措施
1、侵权责任的形式
(1)民事责任
(2)行政责任
2、即发侵权的制止
(一)合理使用或利用
1、为个人目的的复制
2、供教学研究而复制
(二)反向工程
是指对他人的部图设计进行分析、研究然后根据这种分析评价的结果创作出新的部图设计。(此行为不视为侵权)
(三)权利穷竭
是指集成电路部图设计权人或经其授权的人,将受保护的布图设计或含有该布图设计的半导体集成电路产品投入市场以后,对与该布图设计或该半导体集成电路产品有关的任何商业利用行为,不再享有权利。
(四)善意买主
善意买主法律给予豁免。
(五)强制许可
布图设计专有权的取得方式通常有以下三种:登记制;有限的使用取得与登记制相结合的方式;自然取得制。关于布图设计权的保护期,各国法律一般都规定为10年。根据《关于集成电路的知识产权条约》的要求,布图设计权的保护期至少为8年。《知识产权协议》所规定的保护期则为10年。我国《集成电路布图设计保护条例》第十二条 规定,布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受该条例保护。
集成电路布图设计实质上是一种图形设计,但它并非是工业品外观设计,不能适用专利法保护。因为,从专利法的保护对象来看,针对产品、方法或其改进所提出的新的技术方案要求具有创造性、新颖性和实用性。这一点对集成电路布图设计而言往往难以做到。从专利的的取得程序,专利申请审批的时间过长,成本较高,不利于技术的推广和应用。
集成电路布图设计虽然在形态上是一种图形设计,但它既不是一定思想的表达形式,也不具备艺术性,因而不在作品之列,不能采用著作权法加以保护。而且集成电路布图设计更新换代较快,若用著作权法来保护布图设计,则会因著作权的保护期过长而不利于集成电路业的发展。
由于现有专利法、著作权法对集成电路布图设计无法给予有效的保护,世界许多国家就通过单行立法,确认布图设计的专有权,即给予其他知识产权保护。美国是最先对布图设计进行立法保护的国家,随后,日本、瑞典、英国、德国等国也相继制订了自己的布图设计法。
1989年5月,世界知识产权组织通过了《关于集成电路的知识产权条约》。此外,《知识产权协定》专节规定了集成电路布图设计问题,其缔约方按照上述公约的有关规定对布图设计提供保护。
我国的集成电路布图设计保护相对较晚。2001年3月28日国务院通过了《集成电路布图设计保护条例》,于2001年10月1日生效。根据《集成电路布图设计保护条例》,特制定《集成电路布图设计保护条例实施细则》,自2001年10月1日起施行。根据《中华人民共和国集成电路科设计保护条例》,制定《集成电路布图设计行政执法办法》,自2001年11月28日起实行。