本专利所涉及制造的是一种用于真空压力测量与控制的仪器仪表。它是检测真空压力的理想仪表，由于运用了电容量变化的原理，采用了可变电容结构，成功地制造出了一种结构简单，成本较低，工作特性稳定，过压能力强，测量精度和灵敏度高，耐蚀性强，长期稳定性好的真空压力测控仪表——电容式薄膜真空计。
本专利所涉及制造的是一种用于真空压力测量与控制的仪器仪表。它是检测真空压力的理想仪表，由于运用了电容量变化的原理，采用了可变电容结构，成功地制造出了一种结构简单、成本较低、工作特性稳定、过压能力强、测量精度和灵敏度高、耐蚀性强和长期稳定性好的真空压力测控仪表——电容式薄膜真空计。它已广泛地运用于核工业领域内的铀浓缩、太阳能和电子工业领域的单晶硅和多晶硅的提炼、航天领域、真空冶炼、电光源制造、生物制药、石油化工以及实验室等。
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