为了研究希夫碱光亮剂DL01,DL02,DL03及添加剂Co(BF4)2在电镀时的电化学行为,采用线性电位扫描测定了氟硼酸盐光亮镀锡溶液中加入各种新型添加剂后的极化曲线。结果表明,在含DL01或DL03的氟硼酸盐镀液中,Sn2+的还原峰电位分别为-0.230 V和-0.320 V;在含DL01,DL03及少量Co(BF4)2的氟硼酸镀锡溶液中,Sn-Co共沉积峰电位为-0.210 V;Co(BF4)2促进了Sn2+的沉积,Sn-Co的共析是协同共沉积。
用DL0 1、DL0 3作光亮剂 ,在氟硼酸盐镀液中 ,在不同电流密度和不同搅拌速度下 ,在Φ0 .5mm的铜线上 ,电镀锡、锡 铜合金镀层。结果表明 ,所得镀层光亮、柔软。
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