磁控溅射属于一种真空镀膜技术,在微电子、光学薄膜、材料表面处理等众多领域广泛应用。随着磁控溅射镀膜技术的不断发展,其应用范围不断扩大。文章中,主要在探讨磁控溅射镀膜在刀片涂层技术中应用的基础上,对磁控溅射真空镀膜技术的应用机理、靶的结构、靶的选材与提高镀膜质量的方法进行了研究,在文章最后,对磁控溅射镀膜刀片的应用与发展前景进行了探讨。
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